原子層沉淀（ALD）用臭氧發(fā)生器有哪些品牌呢

以下是一些原子層沉積（ALD）中可能會(huì)用到的臭氧發(fā)生器品牌：

北京同林（TOGNLIN）：北京同林科技有限公司是一家是提供高純高濃度臭氧發(fā)生器系統(tǒng)服務(wù)商，目前產(chǎn)品包括半導(dǎo)體用高濃度臭氧發(fā)生器、臭氧氣體分析儀、溶解臭氧分析儀、臭氧水機(jī)、半導(dǎo)體用管道和接頭等。 已經(jīng)應(yīng)用于眾多半導(dǎo)體企業(yè)、科研單位。為原子層沉積（ALD）、化學(xué)氣相沉積（CVD）、光刻膠帶、晶片清潔、污染物去除、表面調(diào)節(jié)和氧化物生長(zhǎng)等半導(dǎo)體工藝設(shè)備提供系統(tǒng)設(shè)備。適用于半導(dǎo)體的型號(hào)包括ATL-H30，3S-T10 ，NANO-15等。

奧爾斯曼（olsm）：天津奧爾斯曼新能源科技有限公司專(zhuān)注于設(shè)計(jì)、研發(fā)和制造各類(lèi)先進(jìn)的高純高濃度臭氧發(fā)生器系統(tǒng)，為原子層沉積等半導(dǎo)體工藝設(shè)備提供最佳的臭氧解決方案。公司目前已量產(chǎn) 3 個(gè)系列的高純高濃度臭氧發(fā)生器設(shè)備，包括 O3HIS 系列、HCV4014 系列和 CH1004 系列。

國(guó)林科技（GUOLIN）：青島國(guó)林環(huán)保科技股份有限公司成立于 1994 年，專(zhuān)業(yè)從事臭氧產(chǎn)生機(jī)理、臭氧應(yīng)用技術(shù)、臭氧材料研究和臭氧設(shè)備制造，是亞洲較大的專(zhuān)業(yè)化臭氧裝備生產(chǎn)企業(yè)。公司擁有多項(xiàng)專(zhuān)有技術(shù)，產(chǎn)品可應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域，在原子層沉積方面也有一定的技術(shù)實(shí)力和市場(chǎng)份額。

蘇伊士新創(chuàng)建（SUEZ）：法國(guó)蘇伊士環(huán)境有限公司旗下品牌，始于 1897 年法國(guó)，由 OZONIA 更名而來(lái)，是全球知名的臭氧和紫外線(xiàn)消毒技術(shù)提供商和設(shè)備制造商，其臭氧發(fā)生器產(chǎn)品在水處理、工業(yè)應(yīng)用等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用，也可能涉及原子層沉積等高端領(lǐng)域。

威德高（Wedeco）：隸屬于賽萊默集團(tuán)，1976 年創(chuàng)始于德國(guó)，是世界水技術(shù)知名企業(yè)，全球較大規(guī)模的紫外線(xiàn)消毒系統(tǒng)和臭氧氧化系統(tǒng)的制造商。威德高于 1988 年推出臭氧技術(shù)，應(yīng)用于飲用水、廢水、工藝用水、產(chǎn)品拋光、漂白、臭氧分解合成和除臭等場(chǎng)景，在原子層沉積行業(yè)也可能有一定的市場(chǎng)。

三菱（Mitsubishi）：三菱電機(jī)株式會(huì)社始于 1921 年日本，作為一家技術(shù)導(dǎo)向型企業(yè)，在壓縮機(jī)、自動(dòng)化、變頻控制、動(dòng)力設(shè)備等高科技領(lǐng)域造詣極深，其研發(fā)與制造的臭氧發(fā)生器被廣泛應(yīng)用于凈水處理、污水系統(tǒng)及工業(yè)廢水的處理設(shè)施等各種場(chǎng)所，也可能應(yīng)用于原子層沉積工藝中。