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臭氧產(chǎn)品
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在原子層沉積(ALD)中使用臭氧(O?)作為氧化劑時,臭氧發(fā)生器及其相關(guān)設(shè)備是關(guān)鍵組成部分。以下是ALD中臭氧發(fā)生器整套設(shè)備的組成及其連接方式:
 所需設(shè)備
1. 臭氧發(fā)生器
   - 功能:產(chǎn)生高純度臭氧。
   - 類型:常見的有電暈放電式和紫外光解式。
   - 輸出:臭氧濃度通常在1-20%之間,具體取決于ALD工藝需求。
   - 根據(jù)濃度要求:推薦同林3S-T10 或 ATL -H30 高濃度臭氧發(fā)生器
 
 2. 氧氣源
   - 功能:提供高純度氧氣作為臭氧發(fā)生器的原料。
   - 設(shè)備:氧氣瓶或氧氣發(fā)生器。
   - 連接:通過氣體管路連接到臭氧發(fā)生器的進氣口。
 
 3.  質(zhì)量流量控制器(MFC)
   - 功能:精確控制氧氣和臭氧的流量。
   - 連接:氧氣源和臭氧發(fā)生器之間安裝MFC,確保穩(wěn)定供氣。
 
 4. 臭氧濃度監(jiān)測儀
   - 功能:實時監(jiān)測臭氧濃度。
   - 連接:安裝在臭氧發(fā)生器出口,確保臭氧濃度符合工藝要求。
  - 推薦3S-J5000紫外臭氧檢測儀
 
 5. 氣體混合室
   - 功能:將臭氧與其他反應(yīng)氣體(如前驅(qū)體)混合。
   - 連接:臭氧發(fā)生器出口與ALD反應(yīng)室之間。
 
 6. ALD反應(yīng)室
   - 功能:進行原子層沉積過程。
   - 連接:氣體混合室通過氣體管路連接到反應(yīng)室。
 
 7. 尾氣處理系統(tǒng)
   - 功能:處理未反應(yīng)的臭氧和副產(chǎn)物,防止環(huán)境污染。
   - 設(shè)備:臭氧分解器、尾氣洗滌器等。
   - 連接:反應(yīng)室出口連接到尾氣處理系統(tǒng)。
 
 8. 控制系統(tǒng)
   - 功能:自動化控制臭氧發(fā)生器、MFC、反應(yīng)室等設(shè)備。
   - 連接:通過電信號或軟件與各設(shè)備連接。
 
 設(shè)備連接流程:
1. 氧氣源 →質(zhì)量流量控制器 → 臭氧發(fā)生器。
2. 臭氧發(fā)生器 → 臭氧濃度監(jiān)測儀 → 氣體混合室 → ALD反應(yīng)室。
3. ALD反應(yīng)室 → 尾氣處理系統(tǒng)。
4. 控制系統(tǒng) 連接并監(jiān)控所有設(shè)備。
 
 注意事項:
- 氣體管路:需使用耐臭氧腐蝕的材料(如不銹鋼、聚四氟乙烯)。
- 安全性:臭氧具有強氧化性,需確保設(shè)備密封性并配備泄漏檢測裝置。
 
這套設(shè)備及其連接方式確保了臭氧在ALD中的高效、安全應(yīng)用。

標簽:臭氧發(fā)生器(65)ALD(7)


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